当前位置: 首页 » 图书馆 » 技术资料 » 生产工艺 »

三氯硅烷的制备及精制工艺进展

Word文档
  • 文件类型:Word文档
  • 文件大小:39K
  • 更新日期:2012-03-13
  • 浏览次数:74   下载次数:1
进入下载
详细介绍

三氯硅烷(HSiCl3)是一种重要的高附加值原料,主要用作半导体工业中制造超纯多晶硅和高纯硅烷的原料及外延生长的硅源。

 
[ 图书馆搜索 ]  [ 加入收藏 ]  [ 告诉好友 ]  [ 打印本文 ]  [ 违规举报 ]  [ 关闭窗口 ]

下载地址












0条 [查看全部]  相关评论
 
更多»相关图书馆
推荐图书馆
本类下载排行
总下载排行
投稿与新闻线索联系:010-68027865 刘小姐 news@solarbe.com 商务合作联系:010-68000822 吕先生 media@solarbe.com 紧急或投诉:13811582057, 13811958157
京ICP备10028102号-1 电信与信息服务业务许可证:京ICP证120154号
地址:北京市大兴区亦庄经济开发区经海三路天通泰科技金融谷 C座 16层 邮编:102600