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不同硅片电阻率对磷扩散的影响研究

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本文研究了单晶硅片不同的基体电阻率,对扩散后方块电阻、表面浓度和结深的影响,采用四探针测试法测定了发射极的方块电阻,结果显示基体电阻率越高,扩散后的方阻越高,采用电化学电压电容(ECV)测量方法测量了发射极表面浓度与结深的变化, ECV测量的结果表明了电阻率高的硅片扩散后表面浓度低、结深越小,是扩散后方阻高的原因,这些结果对太阳能电池生产的扩散工艺有一定的指导意义。
 
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