供应绝缘刻蚀系统

手机扫描查看

机器介绍：
LGI-DP- G-10是一款专门用于单晶硅太阳能电池、多晶硅太阳能电池及微晶硅太阳能电池制造工艺中，对硅片周边扩散生成的掺杂硅膜层、化学气相淀积生成的氮化硅膜层进行周边绝缘的刻蚀系统。通过高能量激光束在电池边缘划过留下的刻痕来达到分隔的目的。与传统等离子化学刻蚀相比有无需昂贵的气体化学耗材、速度、环保等优势，在当今太阳能晶体硅领域已得到广泛应用。
技术特点：
采用的是全进口端面泵浦半导体绿光固体激光器，脉宽短、功率密度高、对电池热影响小、无微裂纹、不影响电池性能、免维护等特点。
应用介绍：

环境要求：
洁净无尘、无震源、13°C-28°C,湿度5%--75%
电力要求：220V正负10%、50赫兹 10安培
技术参数：
波长: 532nm
泵浦方式: 二极管
功率W: 可调，10瓦
工作速度, 200-600mm / s根据客户要求
频率,: ≤100 kHz
适合规格 125mmX125mm，156X156mm选配
整机功率 ≤2KW
供电要求: 220V±10%/50Hz/10A
外观尺寸: 具体实物为准