PECVD

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设备主要特点
◆用工业微机对工艺时间,温度,气体流量,阀门动作,反应室压力实现全自动控制.
◆采用进口压力控制系统,闭环系统,稳定性高.
◆采用进口耐腐蚀不锈钢管件,阀门,确保气路气密性.
◆具有完善的报警功能及安全互锁装置.
◆具有超高温报警及欠温报警,MFC报警,反应室压力报警,RF报警,高压空气压力报警,N2压力报警.水流报警等。
类 型
◆工艺质量完全控制；有毒害尾气定向收集、集中处理排放；更加安全、环保。
◆装片数量： 252片/每炉管
◆净化台洁净度：100级（10000级厂房），可选
◆自动化程度：自动控制温度及工艺过程。主控温控模块采用优质进口品牌，可在达到±0.25℃的控制精度。
◆送取片方式：软着陆形式的悬臂式推拉舟。
设备主要技术指标
◆ 温度使用范围：150～450℃
◆ 极限真空度： 优于1Pa
◆ 压力调节范围：13～300Pa 连续可调，闭环控制
◆ 射频电源： 400KHz连续可调
◆ 温区长度（150～400℃）：1000mm
◆ 温区稳定性（400℃）： ±2℃
◆ 温区稳定性（＜400℃）： ±3℃
◆ 淀积速率： 30nm/min
◆ 深层折射率： 1.9～2.2
◆ 最大可控升温速度：15℃/min
◆ 最大降温速度：5℃/min