供应去磷硅玻璃清洗设备

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主要功能：设备用于清洗硅片。在扩散过程完成后，在硅片表面形成一层非晶或磷硅玻璃，在镀膜前，需要用HF酸腐蚀去除。镀膜（减反射膜）主要用来减少硅片表面对光的反射，一定厚度的减反射膜可以引起入射光和反射光的干涉，从而减少光的反射。如果不将硅片做去磷硅玻璃清洗就镀膜，则会大大的降低硅片的转换效率。
序号 规格 参数（参考）
1 整机尺寸 9450mm（L）*1900mm（W）*2240mm（H）
2 被清洗硅棒尺寸 125×125×0.20mm/156mm×156mm×0.20mm
3 最大产量 2000片/小时（125*125*0.2mm）1600片/小（156*156*0.2mm）
4 操作方式 全自动
5 电力供应 30KW，3相交流电380伏50赫兹