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HPE400系列PECVD
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  • 面议
  • 支持批量采购
  • 发布时间:2015-11-04 14:10

产地:广东 深圳 深圳市 | 归属行业:光伏生产设备

有效期至:长期有效

联系人: 销售部

电话: 0755-26624610

主营: 太阳能光伏设备 太阳电池制造

联系地址:深圳市南山区科技园北环大道9018号大族创新大厦A座2楼

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企业信息

深圳丰盛装备股份有限公司

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  • 旺铺店长: fullshareep

    认证信息

  • 实名认证
  • 信用认证
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  • 联系方式
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  • 供货总量:
  • 发货期限:自买家付款之日起 3 天内发货
  • 所在地:广东 深圳 深圳市

 

  设备用途
等离子体增强化学气相淀积(简称PECVD),主要用途是在硅片表面淀积一层减反射氮化硅膜(SixNy),同时利用在淀积过程中产生的活性H+离子,对硅片表面和内部进行钝化处理。在体现减少光反射的同时,也提高了硅片的少子寿命,最终直接体现在晶体硅电池的转换效率。该设备为国内唯一的第四代PECVD设备,综合性能媲美国际一流产品,其超越同行的实际成膜均匀性,大大减少了上代设备的色差现象,尤其适用于多晶电池片的工艺生产。
  产品亮点
1、单管产能全球率先达到280片(125方片)
2、业内独有、领先的压控/温控技术,最成熟的工艺支持
3、国产设备中唯一可媲美世界一流设备的成膜均匀性和表面色差
4、设备有效工作时间较其他国产设备高5%以上
5、自动上下舟系统中国内唯一采用进口精密直线单元
<!--[if !supportLists]-->◆      <!--[endif]-->主要技术参数
序号
指 标 项 目
  标  值
1
成膜种类
氮化硅
2
装片尺寸
125mm,□156mm
3
装片量
352片/批(□125mm),308片/批(□156mm) 
4
送舟方式
软着陆
5
膜厚均匀性
片内≤±4% 片间≤±4% 批间≤±3%
(膜厚目标值75nm)
6
折射率
2.0~2.1
7
工作温度范围
100~500
8
控温段数
5段
9
升温方式
自动斜率升温及快速恒温功能
10
恒温区精度及长度
±2℃/1200mm(500℃)
11
单点温度稳定度
<±1℃/4h(500℃)
12
升温时间
RT→450℃≤45min
13
温度控制
双模控制
14
系统极限真空度
<1Pa
15
工艺压力范围
80 Pa~320Pa
16
恢复真空时间
AP→10 Pa<5min
17
系统漏气率
停泵关阀后压力升率<0.5Pa /min.
18
压力控制方式
快速调整全自动闭环
19
炉门密封方式
柔性自适应密封
20
工艺控制方式
工艺过程全自动控制,多重安全连锁报警
21
人机交互界面
LCD显示、触摸操作、工艺编辑、在线监控、权限管理、班组管理、组网功能
22
送料方式
自动上下舟 
23
外形尺寸
6650×2040×3580(L×W×H,mm,四管) 


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