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半导体硅晶超声波清洗设备
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  • : 88.00元/台
  • 起订量:1 台
  • 可售数量: 88 台
  • 支持批量采购
  • 发布时间:2016-02-22 08:13

产地:江苏 无锡 无锡市 | 归属行业:晶体硅组件生产商

品牌:雷士

有效期至:长期有效

联系人: 顾晓龙

联系地址:无锡市北塘区惠钱路严家棚厂区

已有1159人关注  
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无锡雷士超声波设备有限公司

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    认证信息

  • 实名认证
  • 信用认证
  • 商品合格
  • 产品详情
  • 联系方式
  • 产品评价
  • 频率:多频
  • 功率:600W
  • 供货总量:88 台
  • 发货期限:自买家付款之日起 3 天内发货
  • 所在地:江苏 无锡 无锡市

产品名称
LSA-MN12四频率半导体超声波清洗机
类型
超声波冷凝槽
适用领域
半导体、导体、硅晶、水晶玻璃、液晶屏
槽数
1
用途
表面清洁处理
   
超声波+加热+液体循环+溢流+冷凝降温
   
工业缠绕薄膜
超声清洗机
1台
超声发生器
1台
内槽尺寸
355×355×320 mm
槽体材质
不锈钢316
超声功率
600W
超声频率
40KHz、80KHz、200KHz、270KHz    可切换
加热调节
0~60
电器控制
PLC






















概述
半导体行业的原材料大部分都由电子器件和硅片组成的,因为半导体外形比较复杂,孔内小,利用超声波清洗机的高效率和高清洁度,得益于其声波在介质中传播时产生的穿透性和空化冲击疚,所以很容易将带有复杂外形,内腔和细空清洗干净,在超声波作用下只需两三分钟即可完成,其速度比传统方法可提高几倍,甚至几十倍,清洁度也能达到高标准,提高了对半导体的生产效率,更突出显示了用其他处理方法难以达到或不可取代的结果
LSA-MN12四频率半导体超声波清洗机适,能有效去除硅片、晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质及石英、塑料等附件器皿的污染物,且不破坏晶片表面特性。根据不同清洗工艺配置相应的清洗单元,各部分有独立控制,随意组合,设备结构紧凑,净化占地面积小,造型美观、实用,操作符合人机工程原理。


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顾晓龙

 
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