半导体硅晶超声波清洗设备

: 88.00元/台
起订量：1 台
可售数量: 88 台
支持批量采购
发布时间：2016-02-22 08:13

产地：江苏无锡无锡市 | 归属行业：晶体硅组件生产商

品牌：雷士

有效期至：长期有效

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无锡雷士超声波设备有限公司

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产品评价

频率：多频
功率：600W
供货总量：88 台
发货期限：自买家付款之日起 3 天内发货
所在地：江苏无锡无锡市

产品名称	LSA-MN12四频率半导体超声波清洗机
类型	超声波冷凝槽
适用领域	半导体、导体、硅晶、水晶玻璃、液晶屏
槽数	1
用途	表面清洁处理
功能	超声波+加热+液体循环+溢流+冷凝降温
包装	工业缠绕薄膜
超声清洗机	1台
超声发生器	1台
内槽尺寸	355×355×320 mm
槽体材质	不锈钢316
超声功率	600W
超声频率	40KHz、80KHz、200KHz、270KHz 可切换
加热调节	0~60℃
电器控制	PLC

概述

半导体行业的原材料大部分都由电子器件和硅片组成的，因为半导体外形比较复杂，孔内小，利用超声波清洗机的高效率和高清洁度，得益于其声波在介质中传播时产生的穿透性和空化冲击疚，所以很容易将带有复杂外形，内腔和细空清洗干净，在超声波作用下只需两三分钟即可完成，其速度比传统方法可提高几倍，甚至几十倍，清洁度也能达到高标准，提高了对半导体的生产效率，更突出显示了用其他处理方法难以达到或不可取代的结果

LSA-MN12四频率半导体超声波清洗机适，能有效去除硅片、晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。根据不同清洗工艺配置相应的清洗单元，各部分有独立控制，随意组合，设备结构紧凑，净化占地面积小，造型美观、实用，操作符合人机工程原理。

关键词：半导体硅晶超声波清洗设备无锡雷士超声波设备有限公司