加州普莱桑顿, 2013年11月25日- 研发高级纳米技术产品的领导者Rolith 公司, 今天自豪地宣布，基于其为大型触控式萤幕显示器、OLED照明和光伏产品中使用的透明金属网格导体的生产，公司荣获印刷电子业界最佳制造技术奖。

2013年8月12日，Rolith公司是高级纳米设备开发的领导者，日前宣布成功展示了采用破坏性毫微光刻方法（滚动掩模光刻 – RMLTM）的金属网格电极技术。

2013年3月7日，高级纳米结构涂层和设备研发企业Rolith, Inc.宣布成功安装 由Rolith, Inc. 独家授权SUSS MicroTec AG建造的第 2 代纳米结构原型工具 – RML-2 工具。此原型基于 Rolith, Inc. 开发的具有颠覆性的纳米光刻技术（滚动掩模光刻 – RMLTM）。该工具允许用户在高达1m x 0.3 m的大面积基底材料上以高吞吐量和具有成本效益的方式创建纳米结构 。